pecvd設備構成和功能_第0頁_馬弗爐,真空爐,管式爐,高溫實驗室電爐生產廠家

一、設備構成

pecvd設備主要有以下幾個部分組成：1.真空系統（泵組部分），2.淀積部分，3.供氣系統，4.射頻系統。

1、真空系統

真空系統主要由一系列泵和波紋管及閥門等組成，主要作用是：維持淀積腔室真空狀態，保持腔室壓力穩定，及時抽走反應生成的顆粒（硅粉等）。

2、淀積部分

•此部分主要包括沉積爐和工件架，主要作用是淀積所需膜質

•沉積溫度：200-230℃ 沉積壓力：0.5-1Torr(50-133Pa)

3、cvd系統的供氣系統

•主要有管道和電磁閥組成，主要作用是提供成膜所需要的特氣及吹掃腔室的氣體。

•反應氣體：Ar、CH4、B2H6、H2、SiH4、GeH4 、PH3

•清潔氣體：NF3

•吹掃氣體：N2

•質量流量計量程：

•TMB （三甲基硼C3H9B ）、 PH3 、GeH4 : 4000scm

•Ar、CH4、 SiH4：15000scm

•H2:30000scm

4.射頻系統

pecvd設備的主要由RF射頻電源柜組成，18分立電源控制18個電極，可對單個電極進行調節。

二、工作原理

2.沉積工作原理

在沉積腔室一定的低真空狀態下，通入反應氣體，待氣流穩定后，打開射頻電源對反應氣體進行電離，進而生成所需要的膜質。

三、日常維護

每日操作人員需對沉積爐、泵、循環水、特氣、RF電源，加熱等系統點檢。